200係列光刻機 —— TFT曝光


SSB225

SSB245

SSB260

SSB200係列投影光刻機采用先進的投影光刻機平台技術,專用於AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路製造,可應用於2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該係列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
   產品特征

● 高精度,分辨率可達1.5μm

● 支持小Mask,可用6英寸掩模實現12英寸屏幕製造

● 具備智能化校準及診斷功能,方便設備參數校調及用戶周期性維護

● 快速靈活的客製化服務

   主要技術參數

 型號

分辨率

 套刻精度

 基板尺寸

SSB225/10

2μm L/S

0.6μm

370mm×470mm
500mm×500mm

SSB225/20

1.5μm L/S

0.5μm

370mm×470mm
500mm×500mm

 SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
 SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
 SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
1500mm×1850mm
 SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
1500mm×1850mm